（原标题：单价3.8亿美元的EUV光刻机，台积电加入抢购）

如果您希望可以时常见面，欢迎标星收藏哦~

来源：内容来自经济日报，谢谢。

业界传出，台积电首台下世代高数值孔径极紫外光微影设备（High-NA EUV）本月将进机，持续领先三星的交机进度，有助台积电持续冲刺新世代先进制程。

对于相关传闻，ASML昨（9）日不评论单一客户。台积电不回应市场传闻。

业界盛传，台积电首台High-NA EUV本月将进机，预计移入台积电全球研发中心，作为研发使用，进而应对后续A14等先进制程开发需求。

至于价格方面，外传台积电总裁魏哲家亲自出马议价有成，在购买新机配售旧款产品之下，整体报价估可减少近二成。

据了解，高数值孔径极紫外光微影设备报价逾4亿欧元，因光镜头镜片无法分拆入厂，高度比一间会议室还高、长度也远超前一代设备，因规格特殊且精密，恐须机场或港口联通的高速公路交管或特定路线于深夜运送入厂，以避免交通不顺。

据统计，台积电目前是全球最大极紫外光微影系统设备持有者，估计占全球EUV晶圆设备产出65%，也是率先将EUV设备导入7纳米制程的厂商。

艾司摩尔已获得所有极紫外光微影（EUV）设备客户下单下世代产品。ASML High NA EUV产品管理副总裁Greet Storms日前受访提到，「ASML持续推进新的技术，并获得每个EUV客户在研发阶段青睐，这些也都是我们High-NA客户，也都有下单给我们，2026年希望是往量产方向推进」，不过仍看客户制程成本等总体考量。

ASML先前曾证实，今年底前将向台积电交付最新的High-NA EUV。艾司摩尔强调，下世代极紫外光微影设备已于去年底开始陆续出货，产能预计每小时可曝光超过185片晶圆，将支援2纳米以下逻辑芯片及具有相似晶体管密度的记忆体芯片量产。

英特尔买下第二台High NA EUV光刻机

荷兰半导体设备制造商阿斯麦（ASML）在今年四月向一家未披露名称的公司交付了其第二台高数值孔径 (NA) 极紫外 (EUV) 光刻机。

这台高端光刻机旨在制造比当前低 NA EUV 设备所能制造的更高密度的芯片。据路透社报道，第二台高端光刻机的出货意味着这一最新技术正逐渐被采用。

然而，ASML 对买家身份讳莫如深，只能猜测其身份，路透社指出英特尔、台积电和三星都是潜在客户。事实上，英特尔已经购买了首台高数值孔径 EUV 光刻机，用于其即将推出的 14A 制程节点。正如 ASML 在提交给美国证券交易委员会的文件中提到的，英特尔在 2024 年初于其位于俄勒冈州希尔斯伯勒的工厂接收了首台 TWINSCAN EXE:5200 系统。台积电和三星也已经确认有意采用 ASML 的高数值孔径 EUV 光刻机。

后来，相关报道证实第二台的买家也是英特尔。

不过，这三家顶尖半导体公司并非唯一可能的买家。去年 12 月，有传闻称由 IBM 和美光等公司运营的一家正在建设的半导体工厂将获得一台 ASML 的高数值孔径 EUV 光刻机，这台机器有可能就送到了那里。此外，如果机器被英特尔、台积电或三星拿到手，很可能难以保密太久。

尽管目前为止只有两台这样的高端光刻机投入使用，但 ASML 计划生产更多设备，该公司已经收到额外的 10 到 20 台订单，每台售价 3.5 亿欧元（注：当前约 27.02 亿元人民币），这意味着 ASML 目前已收到至少 35 亿欧元的订单。结合已经售出的两台机器，预计 ASML 未来高数值孔径 EUV 光刻机的销售额将超过 40 亿欧元。

三星削减High-NA EUV光刻机采购

韩媒 businesskorea 日前发布博文，曝料称三星计划削减 High-NA EUV 采购规模，而且和 ASML 联合创立研究中心项目也遇到诸多障碍。

三星于 2023 年 12 月和 ASML 签署了一份谅解备忘录（MOU），将在韩国首都圈建立一个 EUV 联合研究中心。

IT之家援引消息源报道，三星原本计划在未来 10 年内，采购 Twinscan EXE:5200、EXE:5400 和 EXE:5600 三款后续 Twinscan EXE:5000 High-NA 光刻机，而最新报道称三星已经通知 ASML，不仅削减 Twinscan EXE:5000 系列 EUV 光刻机采购数量，而且后续仅采购 EXE:5200。

报道称这一决定是在副董事长 Jun Young-hyun 被任命为 DS（设备解决方案）部门的新负责人，并重新审查正在进行的项目和投资之后做出的。

一位熟悉情况的业内人士说：

在京畿道华城购买土地建造研究设施的过程以及设计和审批过程都在进行中，然而，随着三星决定减少设备引进，相关进程已完全停止。

联合研究中心是否会在其他地方建立，或者建立本身是否会被取消，将在今后的讨论中决定。

半导体精品公众号推荐

专注半导体领域更多原创内容

关注全球半导体产业动向与趋势

*免责声明：本文由作者原创。文章内容系作者个人观点，半导体行业观察转载仅为了传达一种不同的观点，不代表半导体行业观察对该观点赞同或支持，如果有任何异议，欢迎联系半导体行业观察。

今天是《半导体行业观察》为您分享的第3881内容，欢迎关注。

『半导体第一垂直媒体』

实时 专业 原创 深度

公众号ID：icbank

喜欢我们的内容就点“在看”分享给小伙伴哦